濕法清洗作為半導體制造中頻次高、覆蓋環(huán)節(jié)廣的核心工藝，貫穿晶圓刻蝕、鍍膜、去膠、拋光等全流程，清洗槽體的材質(zhì)潔凈度是杜絕二次污染的關鍵瓶頸。傳統(tǒng)PP、PVC、石英、不銹鋼槽體，存在耐腐蝕性差、金屬離子析出高、表面易吸附殘留、高溫易老化析出雜質(zhì)等缺陷，無法滿足高純濕電子化學品（UPW、雙氧水、HF、硝酸、硫酸混酸體系）的存儲與清洗需求。
同時，半導體痕量分析依賴高精度ICP-MS、ICP-OES等檢測設備，檢測器皿的潔凈度直接決定痕量金屬（ppb、ppt級別）檢測數(shù)據(jù)的可靠性，普通器皿清洗器具易引入外源雜質(zhì)，造成檢測結(jié)果失真。PFA與PTFE氟塑料材質(zhì)憑借C-F化學鍵結(jié)構穩(wěn)定性，具備化學惰性與低析出特性，其制備的酸缸適配半導體嚴苛酸堿工況與精密痕量清洗場景，是半導體濕制程車間、第三方檢測實驗室的標配潔凈設備。

PFA/PTFE方槽具有強化學惰性，可耐受強酸強堿以及大部分的有機溶劑，不受其腐蝕影響。無材質(zhì)出，老化開裂，介質(zhì)污染等問題，適配濕電子化學品全類清洗工況。方槽一體成型，無滲透等。